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反渗透膜设备在电子行业的应用

    反渗透膜设备点击查看设备选型) 生产的纯水在电子工业中尤其是电子元器件生产中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因索之一。在电子元器件 生产中,高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

    在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。

    在电子管生产中,电子管阴极涂敷着碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水。

    在显象管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8 ppb以上,就会引起发光变色。含铁在50 ppb以上就会使发光变色、变暗,闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,会降低荧光层强度及其与玻壳粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显象管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5工序需使用纯水,每生产一个显象管需用纯水80 Kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。

    在晶体管集成电路生产中反渗透膜设备生产的纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源、部份设备的冷却水、配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%工序需要使用高纯水清洗硅片,高纯水设备生产的水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。

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